第120章 51区的脑补闭环了（1w）(8/15)

    这样搞，无论是良率还是稳定性都特别差。

    好在东德的合作很快到来，就像一阵春风，东德在光学仪器上，帮助他们快速解决了原本无法解决的关卡。

    一个接一个的克服，能做到微米级的步进式光刻机打造出来后，芯片印刷上的难题都迎刃而解。

    按照原历史，华国本来也在1965年，由华国科学院微电子研究所和申海光学仪器厂一起合作，研发出了华国第一台65型接触式光刻机。

    《1956-1967年科学技术发展远景规划纲要》里关于半导体技术制定的计划，几乎都实现了。

    只是现在，因为有了更具体的目标。

    65式这种只是基于研发的机器是肯定无法满足。

    华国和东德合作，造出来要更符合实际生产需要，已经和原本1985年才搞出来的分步光刻机相差不大了。

    剩下的就是高纯度的硅，国内硅片常含杂质。

    进口高纯硅受限。

    从区域精炼工艺到炉子改造，再到温度精准监控。

    这些都无法依赖东德，只能靠自己。

    树莓派在这个过程中起到了巨大作用。

    改进后的区域精炼设备，如果只考虑温度控制系统，这套基于树莓派计算打造的温度控制系统，比德州仪器的还要更先进。

    不过越是研发，华国科研人员内心的紧迫感就更甚。

    毕竟整个51区知道树莓派存在的人里，从上到下，没有一个会觉得树莓派只有华国有。

    大家都很清楚，阿美莉卡也有，而且只会更多。

    在这样的想法下，他们都以为自己只是接近阿美莉卡最先进水平。

    压根想不到，他们基于便携式计算机打造的整套技术，有不少都站在了世界先进水平。

    光刻、刻蚀和互连工艺是集成电路制造的核心，过去华国缺乏相关经验。

    光刻掩模对准困难，刻蚀深度难以控制，金属互连常出现断路或短路。

    DTL电路逻辑功能验证了，但良率太低，互连问题始终无法解决。

    金属沉积的均匀性不够。

    图案的精度不够。