第五百三十八章 半导体五年战略规划(4/9)

的智云微电子的丁成军道：“不错，我们智云微电子将会采用这款最新的HEUV-300C光刻机量产等效五纳米工艺的芯片，后续的的等效三纳米工艺的前期生产，也将会使用这一款光刻机！”

    “尽管HEUV-300B型号的光刻机，同样能够生产等效五纳米工艺的芯片，但是因为等效五纳米工艺芯片所需要层数更多，使用HEUV-300B光刻机的话，芯片良率不太行，生产效率不太行，成本过于高昂，所以我们已经暂停了使用这款光刻机制造五纳米工艺芯片的计划！”

    第一代的HEUV-300B光刻机的每小时生产效率只有一百二十片，对比HEUV-300C的每小时一百八十片差了很多，再加上套刻精度的差距，最后导致用来生产五纳米芯片的话，就有些力不从心。

    不是说不行，而是划不来！

    丁成军继续道：“我们在建以及规划建设的多家晶圆厂，已经拟定采用这款HEUV-300C光刻机了，这种建造出来的晶圆厂，不仅仅能够用来制造五纳米工艺的芯片，我们也在想办法进行持续的技术升级改进后，让这种光刻机也是能够用来生产等效三纳米工艺的芯片！”

    “如此能够让先机半导体工厂的高利润使用寿命更长！”

    建设先进半导体工厂，是要考虑到未来的升级潜力，同时也要尽可能的适应更先进的工艺的……毕竟现在的新半导体工厂太贵了。

    里头用的各种设备都是清一色的天价！

    如HEUV-300C光刻机，这种最新型的EUV光刻机，海湾科技那边的对外供货价达到一点五亿美元一套……贵的很！

    而智云微电子规划一座月产五万片的5纳米工艺的晶圆厂，就要使用大概十台这种光刻机……光是这一种光刻机的采购成本，就得十五亿美元！

    然后还要搭配若干最新式的DUV浸润式光刻机，也就是海湾科技的HDUV-600E型光刻机，而这种光刻机也不便宜，每台要七千多万美元呢。

    这种光刻机在智云微电子里，虽然只是个打下手的光刻机类型，用来辅助EUV光刻机生产先进工艺的芯片!

    但是在其他半导体厂商里，这种先进DUV浸润式光刻机可是核心主力光