第四百二十四章 制裁：百分百汽车关税(3/9)

做到两纳米的程度，也能勉强高，但是成本会上天……

    智云半导体以及对面的台积电，其实都在尝试用DUV浸润式光刻机搞等效五纳米工艺的芯片……嗯，就是尝试把芯片的半金属间距做到大概二十五纳米的水准。

    别看只是两纳米的半金属工艺的提升，但是依旧是一道难以夸张的天堑，难得很。

    所以别看都在搞，但实际上都对这一技术路线望而止步……用DUV浸润式光刻机搞等效五纳米的芯片，这个太扯淡了，从商业角度来看完全不值得。

    所以这两家芯片先进工艺的竞争对手，在使用DUV浸润式光刻机制造等效五纳米工艺这一技术路线上，都是雷声大，雨点小……都在指望EUV光刻机呢。

    至于四星和英特尔，他们就更惨了，他们连十纳米工艺，嗯，也就是大概三十三半金属工艺节点都还没有搞出来呢。

    等效七纳米，遥遥无期……

    其中的英特尔是受限于各种情况，技术推进非常不顺利，只能在十四纳米工艺上修修改改。

    而四星那边，则是之前被智云半导体挖走了梁松教授，没有顶级人才的协助下他们搞起来先进工艺也很难，现在还在十四纳米工艺里打转。

    同时，这两家半导体厂商，现在也开始指望用EUV光刻机搞后续的七纳米工艺……用DUV浸润式光刻机玩四重曝光，然后搞等效七纳米，太尼玛难了。

    所以，DUV浸润式光刻机受限于本身的分辨率限制，别说搞等效五纳米了，就算是用来做等效七纳米工艺，也是千难万难……也不是搞不了，而是良率太低了，进而导致芯片成本暴涨。

    而芯片可是一个非常讲究性价比的东西，你性能没提升多少，但是成本暴涨好几倍，这是没有市场价值可言的。

    到了等效七纳米工艺这个阶段，其实就需要EUV光刻机了……因为它的分辨率更低，哪怕是单次曝光也能够达到DUV浸润式光刻机四重曝光的精度……这意味着什么？

    省钱啊！

    哪怕EUV光刻机更贵，生产效率更低，但是因为不需要四重曝光就能生产等效七纳米乃至五纳米工艺的芯片，因此生产出来的等效七纳米，五纳米工艺的芯片，其成本依旧低于DU