第三百零三章 先进智能无人机作战系统(5/8)

SML都懒得说，因为说了也没用。

    难不成，ASML还能指望国内，因为区区专利问题就给海湾科技的DUV浸润式光刻机来个禁令啊？

    天堂里都做不出这么美的梦！

    有这幻想，国外还不如起诉国内的军舰飞机坦克之类的侵犯国外同类装备的专利呢。

    说实话，国外起诉飞机军舰坦克侵犯专利，然后获得胜诉的可能性，比起诉海湾科技DUV浸润式光刻机侵犯专利获得胜诉的可能性还大那么一点点。

    当然，哪怕是有所谓的‘自主专利’，海湾科技也不会到处叫嚷……技术人员多少还是有些自尊心的。

    哪怕再怎么遮掩，糊弄外人，但是自己心里都知道，这东西就是对着ASML的光刻机抄的。

    此时王道林道：“不过我们这边也在持续进行技术研发，争取早日绕过这些专利限制，让我们的光刻机可以光明正大的出现在大众视野里，到时候，我们就推动我们的DUV浸润式光刻机走向海外，出口创汇去！”

    徐申学笑呵呵道：“有这个信心很好。”

    王道林一边和徐申学说着话的时候，前头的无尘车间里的第一台国产DUV浸润式光刻机也正在进行着试生产。

    边上的丁成军也在说着这一次的试产规划：“目前我们正在试产的芯片，是集团里一种采用四十纳米工艺的逻辑芯片，这一次试产的目的主要还是看良率，效率这些性能指标，至于光刻精度的话，之前我们已经进行了大量的测试，是完全能够满足我们的四十纳米工艺的光刻机精度的！”

    “并且我们的光刻机也具备了二十八纳米工艺所需要的套刻精度，不过在一些技术指标上还有所欠缺，现阶段采用二十八纳米工艺的话，会导致生产成本的比较大幅度的上涨。”

    “甚至理论上，我们这台光刻机，也能勉强用于十八纳米甚至十四纳米工艺的生产，只是成本就太高了，不具备实际商业价值！”

    “目前我们微电子这边的规划是，前期采购的这款HDUV-400型号，主要还是用于四十五、四十纳米乃至二十八纳米工艺的逻辑芯片，或者是部分四十纳米、三十纳米、二十五纳米工艺的储存芯片的生产！”

    “这几个工艺节点